清洗單晶硅用的純水可以用超純水設(shè)備制取嗎？
文章作者: 宏森環(huán)保
眾所周知，隨著電子產(chǎn)品在人們?nèi)粘Ｉ畹钠毡閼?yīng)用，而半導(dǎo)體單晶硅又是設(shè)備不可缺少的一種部件，在單晶硅的制作中需要用到大量的工業(yè)純水來進行清洗，如純水的水質(zhì)達不到一定的標(biāo)準(zhǔn)則將會對電子產(chǎn)品的使用造成一定的影響。
超純水設(shè)備是眾多工業(yè)用于純水制造時會優(yōu)秀選擇的一種設(shè)備，那清洗單晶硅用的純水可以用超純水設(shè)備制取嗎?
超純水設(shè)備可采用反滲透技術(shù)、去離子技術(shù)、edi超純水技術(shù)等純水制取工藝，不同的水處理工藝制取的純水電導(dǎo)率是不一樣的，如需工業(yè)需要的水質(zhì)達到18.2MΩ.cm，則需要進行水處理工藝相結(jié)合的方式進行制取。
工業(yè)超純水制取工藝流程：原水預(yù)處理—反滲透水處理技術(shù)—超純化處理—后級處理，采用這個水處理流程制取的純水水質(zhì)可達到18.2MΩ.cm。
超純水設(shè)備是一種制取的純水電阻率高、水質(zhì)可達到雜質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、也不會出現(xiàn)導(dǎo)電的情況，因此是可以用于清洗單晶硅用的純水制取，不僅可用于半導(dǎo)體行業(yè)還可以應(yīng)用于太陽能電池、實驗室用的純水、制藥工業(yè)、電子設(shè)備顯示器、電腦元件等工業(yè)。
如工業(yè)所需的水質(zhì)無需達到18.2MΩ.cm，在18.2MΩ.cm以下的可以采用其他的水處理工藝流程，具體的水處理工藝流程可到宏森環(huán)保查詢，工程師會根據(jù)要求的水質(zhì)進行定制流程。
